牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统
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简介：原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统是一种带有等离子体选项的直开式热原...
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- 产品介绍
原子层沉积 (ALD) 是一种真正的纳米技术, 可以准确可靠地沉积仅几个纳米厚的超薄薄膜。等离子体可以实现出色的表面预处理, 控制薄膜性质以及作为种类广泛的沉积源。牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
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ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求。
- 实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪。
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OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
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紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项
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适用于小尺寸至200mm的晶圆片
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蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体
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实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
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牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统特点
牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。
可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境
易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间
机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺
气动起重装置 - 用于安全打开腔室
可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺
牛津仪器 OpAL原子层沉积（ALD）系统应用
- 纳米电子
- 高K栅氧化物
- 存储电容电介质
- 用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
- 用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
- 用于晶体硅太阳能电池的钝化
- 用于微流体和MEM的高保形涂层
- 纳米多孔结构的涂层
- 生物MEMS
- 燃料电池
