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牛津仪器 等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)PlasmaPro 1000

产品简介:

大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案,LED工业要求高产量,高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。 更大的批量生产能力 高产量 更稳定的器件质量 低购置成本 提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置 标准的真空传送腔室,具有直开式和...

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详细介绍
大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案,LED工业要求高产量,高器件质量和低购置成本。 PlasmaPro 1000更好地解决了这些需求。

  • 更大的批量生产能力

  • 高产量

  • 更稳定的器件质量

  • 低购置成本

  • 提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置

  • 标准的真空传送腔室,具有直开式和集群式选项

  • 出色的正常运转时间

  • 高质量器件性能和良率


特点

PlasmaPro 1000设备能为LED生产商提供更好的行业优势

490mm电极 - 更为先进的批量规模,多达7 x 6”晶圆,提供了更高的产量

可靠的硬件系统易维护性 - 出色的正常运转时间

最大化压盘 - 增强晶圆冷却

Z向可移动电极 - 更好的均匀性

双进气口 - 易于工艺调整

特殊的载盘设计 - 每片晶圆在最小的边缘去除区域之内,均获得有效的冷却,且易于使用和维护

高导通的径向(轴对称)抽气结构 - 确保提升了工艺均匀性和速率


应用

  • 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
  • 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

 


关键词:气相沉积系统
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