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布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪

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简介:布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪是定位和量化TXRF微量金属污染的半导体仪器。布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪是最新的力量TXRF光谱仪,为全晶片提供快速、非破坏性,内联和完全自动化测量微量金属,...

  • 产品介绍
布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪是定位和量化TXRF微量金属污染的半导体仪器。布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪是最新的力量TXRF光谱仪,为全晶片提供快速、非破坏性,内联和完全自动化测量微量金属,使污染控制在设备处理。布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪符合半标准,带有JV-TXRF软件包,是最新的TXRF技术和仪器创新。
布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪的TXRF技术给晶圆厂的完全自动化解决方案监测微量金属污染,同时保持空间信息在晶片表面。测量表面敏感,无损,完全自动化,不需要化学危险品的使用。JVX7300F-C给用户增加了测量的选择与配方可定义晶片对齐方法,提高吞吐量和测量硅和其他晶片基板的灵活性。JVX7300F-C提供了一个可定制的平台3同时配置、单色、光学路径。使用三种不同的激励源保证最好的敏感性组在每个元素周期表。JVX7300F-C还配备了最新的硅漂移探测器,提供优秀的能量分辨率和背景的最终微量金属的敏感性最低。
快速映射TXRF,整片地图的快速映射TXRF给污染物的数量和他们的位置信息在晶片表面。这个信息是故障诊断的关键微量金属远足和监测微量金属含量在工厂中的每个流程步骤。零边缘排除,JVX7300F-C提供映射能力为零毫米边缘排除。晶片边缘TXRF测量为工程师提供了极有价值的信息,在微量金属含量的关键区域的晶片,这是容易通过foup和边缘触手交叉污染。
如果您需要布鲁克Bruker JVX7300F-C 半导体计量仪及布鲁克品牌仪器、或者其他品牌仪器,均可联络我司销售部门:0731-84284278 84284378。

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