牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀
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简介：牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。 多模式功能 ...
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- 产品介绍
牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。
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多模式功能
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能够与其它等离子体刻蚀和沉积设备相集成
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单晶圆传送模式或集群式晶圆操作
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双束流配置
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更低的表面薄膜粗糙度
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更佳的批次均匀性和工艺重复性
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准确终点监测 —— SIMS，发射光谱
牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀特点
- 质量薄膜高 ——超低污染
- 产量高，紧凑的系统体积设计 ——运行成本低
- 已获得专利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制
- 配置灵活 ——适于先进的研究应用
- 灵活的晶圆操作方式 —— 直开式、单晶圆传送模式或者带机械手臂的盒对盒模式
牛津仪器 Ionfab 300 IBE离子束刻蚀应用
- 磁阻式随机存取存储器（MRAM）
- 介电薄膜
- III-V族光电子材料刻蚀
- 自旋电子学
- 金属电极和轨道
- 超导体
- 激光端面镀膜
- 高反射（HR）膜
- 防反射（AR）膜
- 环形激光陀螺反射镜
- X射线光学系统
- 红外（IR）传感器
- II-VI族材料
- 通信滤波器
