0731-84284278

牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD

名称:其他仪器与工具

品牌:

型号:

简介:牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择...

  • 产品介绍
牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。

牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD特征

  • 直开式设计允许快速装卸晶圆

  • 出色的刻蚀控制和速率测定

  • 出色的晶圆温度均匀性

  • 晶圆最大可达200mm

  • 购置成本低

  • 符合半导体行业 S2 / S8标准


牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD应用

  • III-V族刻蚀工艺
  • 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺
  • 类金刚石
  • 类金刚石(DLC)沉积
  • 二氧化硅和石英刻蚀
  • 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆
  • 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途
  • 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀


牛津仪器 PlasmaPro 80 ICPCVD特点

  • 小型系统——易于安置
  • 优化了的电极冷却——衬底温度控制
  • 高导通的径向(轴对称)抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率
  •  增加<500毫秒的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录
  •  近距离耦合涡轮泵——提供优越的泵送速度加快气体的流动速度
  •  关键部件容易触及——系统维护变得直接简单
  • X20控制系统——大幅提高了数据信息恢复功能, 同时可以实现更快更可重复的匹配
  •  通过前端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快
  • 用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界
  • 用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测

联系电话

0731-84284278

在线留言

关注我们

TOP

您好,欢迎访问艾克赛普

想要进一步了解我们的产品和方案?

我们7*24小时为您服务!

电话咨询:0731-84284278

稍后联系

提交您的需求,我们将尽快与您联系

完善您的信息,艾克赛普专业团队为您提供服务!

请选择您要填写的表单类型 *

获取产品报价

获取方案详情

申请技术服务

公司名称 *

姓名 *

手机号 *

邮箱

需求描述 *

验证码 *