Accexp 显微镜LED曝光系统
名称：系统集成
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简介：◎ Accexp 显微镜LED曝光系统是不需要使用光罩就可以完成光刻的 Pattern 投影式光刻设备。 ◎ 使用金属显微镜和 LED 光源 DLP 投影仪、即可把解像度数 m 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,进行光刻。 ◎...
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- 产品介绍
◎ Accexp 显微镜LED曝光系统是不需要使用光罩就可以完成光刻的 Pattern 投影式光刻设备。
◎ 使用金属显微镜和 LED 光源 DLP 投影仪、即可把解像度数 μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,进行光刻。
◎ Pattern 可以透过专有软件自由编辑，并且将制作完成的图形进行保存。
◎ 将多种大小,形状以及层状在大气环境下形成电极在单晶薄膜上,比起电子束曝光机价格来的便宜,方便性高.使用时也不需要制作Pattern Mask。
◎ 使用金属显微镜和 LED 光源 DLP 投影仪、即可把解像度数 μm 的任意 Pattern 投影在涂布光阻的基板上,进行光刻。
◎ Pattern 可以透过专有软件自由编辑，并且将制作完成的图形进行保存。
◎ 将多种大小,形状以及层状在大气环境下形成电极在单晶薄膜上,比起电子束曝光机价格来的便宜,方便性高.使用时也不需要制作Pattern Mask。
Accexp 显微镜LED曝光系统用途
- 薄膜 FET 以及 Hole 效果量测用试料的电极形成
- 从石墨烯・钼矿石取出薄片,进行矿石特性评价的电极形成
- 面向研究开发方向的模式形成
Accexp 显微镜LED曝光系统特点
- 因为是显微镜和 DLP 的组合,所以會比目前市場銷售的其他曝光系统便宜
- 用对物镜头的倍率,可以从微细模式到广范围的一次全部曝光
- 可安装在所有的显微镜上（根据显微镜的规格要求）
- 可制作解像度 μｍ等级的形状
- 光刻范围：物镜 5X：约 1.85mm×1.15mm
- 物镜 100X：约 90μｍ×60μｍ
※曝光范围为参考值
如果您对Accexp 显微镜LED曝光系统有兴趣，欢迎致电长沙艾克赛普仪器设备有限公司：0731-84284278，我们的工程师将为你提供最佳的测试方案。Accexp是一家专注于仪器工控设备、测试方案系统集成的科技企业。作为专业的仪器仪表公司及测控集成ATE提供商，多年来坚持自主研发创新，结合引进代理各大知名品牌的优质仪器设备，致力于提供更科学智能的软硬件测试方案。
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