布鲁克Bruker IR300 纳米级红外光谱仪 尺寸图标
名称：光谱仪
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简介：Dimension IconIR300™ 大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有无与伦比的功能、样品大小和材料类型灵活性。通过结合专有的光热红外光谱和纳米级AFM特性映射功能，IconIR300能够在最广泛的晶圆和...
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- 产品介绍
Dimension IconIR300™ 大样品纳米红外系统为半导体应用提供高速、高精度的纳米级表征，具有无与伦比的功能、样品大小和材料类型灵活性。通过结合专有的光热红外光谱和纳米级AFM特性映射功能，IconIR300能够在最广泛的晶圆和光掩模样品上进行自动晶圆检测和缺陷识别。该系统显著地将AFM-IR技术的应用扩展到半导体行业领域，超出了传统技术的范围。
IconIR300 建立在 Dimension IconIR 系统的突破性大样品架构之上，可提供相关的显微镜和化学成像，以及增强的分辨率和灵敏度。该系统与自动化晶圆处理和先进的数据收集/分析软件集成，可节省更多的时间和成本并提高生产效率。
面向半导体行业的卓越纳米级红外光谱和化学成像
只有尺寸图标IR300系统提供：
全晶圆，无损测量200毫米和300毫米晶圆;
使用与FTIR库直接相关的数据明确识别半导体晶圆和光掩模上的有机和无机纳米污染物;
无损台阶高度测量和纳米级材料性能映射;和
基于配方的自动化测量和 KLARF 文件支持，便于用户访问全面数据。
200mm和300mm晶圆的全晶圆测量
我们获得专利的独特AFM-IR模式套件和专有的峰值力攻丝®特性映射模式，以及IconIR300的大样品架构，为最广泛的半导体应用提供了最大的样品灵活性。IconIR300 可对直径达 300 mm 的样品进行全晶圆测量，测量范围广，厚度和材料类型多种多样，包括：
有机和无机样品;
图案化晶圆;
裸晶圆;
光掩模;和
数据存储介质晶圆。
此外，表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能够对沉积在半导体材料上的聚合物薄膜提供独特、可靠的表面敏感化学测量。
尺寸 IconIR300 系统在 300 mm 晶圆缺陷检测期间的内视图
用于半导体应用的最高性能纳米级红外光谱
在PS-LDPE聚合物共混物的不同位点收集的高质量共振增强AFM-IR光谱，说明了高度的材料灵敏度和对纳米级材料特性的更深入洞察
布鲁克是基于光热AFM-IR的纳米红外光谱的创新者，这是纳米红外社区的首选技术。
尺寸图标IR300提供：
具有FT-IR相关性的高精度，丰富，详细的光谱，实现对薄污染物的纳米级测量;
各种先进的操作模式，支持工业和学术用户的各种样品测量;
最高性能的AFM-IR光谱，半导体应用中领先的纳米红外模式;和
对聚合物薄膜进行可靠的表面敏感化学测量。
晶圆和光掩模上的最高分辨率化学成像
Dimension IconIR300 行业领先的 AFM 性能和布鲁克获得专利的攻丝 AFM-IR 成像共同增强了我们纳米红外技术的空间分辨率和样品可及性。
尺寸图标IR300提供：
<10nm化学空间分辨率，用于对各种样品类型进行成像，包括软有机和无机污染物;
一致、可靠和高质量的数据;和
AFM-IR技术用于去除任何和所有机械伪影，确保只收集真实的化学成分。
PS-b-PMMA嵌段共聚物在攻丝AFM-IR模式下的高分辨率化学成像，显示样品形貌（a）;1730 （b） 处的红外图像;和 1492 cm-1 （c） 分别突出显示 PMMA 和 PS。图（b）中的黄色箭头表示化学分辨率<10 nm。叠加图像 （d） 捕获合成图。
用于识别纳米污染物的高级自动化
IconIR300 配备了我们专有的 AutoMET® 软件套件，可实现多级自动化，用于实时和离线对各种样品类型的无损 AFM 测量。
关键自动化功能包括：
台阶高度研究以及纳米级材料性能映射。
光学和AFM图像模式识别;
尖端居中;
完整的晶圆或网格映射支持;
图像放置精度在几十纳米以内;
全面、简单的食谱编写;和
KLARF文件导入功能，支持纳米红外自动化功能。
这些功能，加上具有高分辨率红外光谱的纳米级化学表征，使学术和工业用户能够克服半导体材料传统缺陷识别的局限性。
高度图像（a）和来自裸硅晶片上污染物的光热AFM-IR光谱（b）。FTIR 库的匹配结果将污染物标识为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
表面灵敏模式采集表面涂层的光谱信息（绿色曲线），共振增强模式采集体积范围的信息，包括表面涂层和下层体材料（褐色曲线）
采用布鲁克最新专利表面灵敏模式，IconIR将探测深度从500纳米降低到数十纳米，无需制备截面，无缝结合高空间分辨率和高表面灵敏度。
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